清掃機器

簡単な説明:

洗浄設備は、304/316Lステンレス製洗浄槽、超音波発生装置（40～60kHz）、高圧噴霧システム（5～20MPa）、PLCインテリジェント制御システムで構成され、オプションで加熱装置（20～90℃）と濾過サイクルを備えています。洗浄効率は99%以上、消費電力は0.8kW/m²以下、高度な自動化（CIP/SIP対応）を特長とし、内壁は電解研磨（Ra≤0.8μm）されているため、pH2～12の媒体に耐えます。洗浄操作は超音波キャビテーションと高圧水機械洗浄および化学薬品を組み合わせ、汚れを除去します。濾過システムで洗浄液を循環させます。半導体ウェハ洗浄（ISO 14644-1 クラス5）、自動車部品の脱脂、製薬機器の殺菌、電子部品の除塵などに応用され、GB/T 30032およびISO 14151規格に準拠しています。