半導体洗浄装置

簡単な説明:

この洗浄装置は、主に湿式腐食洗浄などの工程で使用される腐食性液体を集中的に分配し、パイプラインを介して装置に送ります。高度な自動化、計量、操作の容易さなどの特徴を備え、耐腐食性も良好です。適用対象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPAなど。1.酸供給機はPP磁器白板で作られており、彫刻後に熱間曲げ/溶接加工が施されているため、腐食槽の材質が強酸腐食に耐えられるようになっています。2.操作面には、目に見えるプッシュプル透明PVCドアと窓があります。3.酸貯蔵タンクは輸入PVDFで作られ、パイプラインは輸入PFAで作られています。


製品詳細

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半導体洗浄装置

この洗浄装置は、主に湿式腐食洗浄などの工程で使用される腐食性液体を集中的に分配し、パイプラインを介して装置に送ります。高度な自動化、計量、操作の容易さなどの特徴を備え、耐腐食性も良好です。適用対象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPAなど。1.酸供給機はPP磁器白板で作られており、彫刻後に熱間曲げ/溶接加工が施されているため、腐食槽の材質が強酸腐食に耐えられるようになっています。2.操作面には、目に見えるプッシュプル透明PVCドアと窓があります。3.酸貯蔵タンクは輸入PVDFで作られ、パイプラインは輸入PFAで作られています。


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