Оборудование для очистки полупроводников
Оборудование для очистки полупроводников
Оборудование для очистки в основном используется для централизованного распределения коррозионных жидкостей, необходимых для влажной коррозионной очистки и других процессов, и подается к оборудованию по трубопроводам. Оно отличается высокой степенью автоматизации, дозированием, простотой в эксплуатации и хорошей коррозионной стойкостью; Применимые вещества: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCl, H2O2, IPA и др. 1. Устройство подачи кислоты изготовлено из полипропиленовой фарфоровой доски, обработанной методом горячей гибки/сварки после гравировки, что обеспечивает устойчивость материала резервуара к сильной кислотной коррозии; 2. Рабочая поверхность имеет прозрачную дверь и окно из ПВХ с возможностью открывания и закрывания; 3. Резервуар для хранения кислоты изготовлен из импортного ПВДФ, а трубопровод — из импортного ПФА.









