半导体清洗设备

简短描述:

该清洗设备主要用于湿式腐蚀清洗等工艺中所需腐蚀性液体的集中分配,并通过管道输送至设备。它具有自动化程度高、配比精准、操作简便等特点,且耐腐蚀性好;适用对象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCl、H2O2、IPA等。1. 酸液供应机采用PP瓷质白板,经雕刻后热弯/焊接加工,确保腐蚀罐材料耐强酸腐蚀;2. 操作面设有可视推拉式透明PVC门窗;3. 酸液储罐采用进口PVDF材质,管道采用进口PFA材质。


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半导体清洗设备

该清洗设备主要用于湿式腐蚀清洗等工艺中所需腐蚀性液体的集中分配,并通过管道输送至设备。它具有自动化程度高、配比精准、操作简便等特点,且耐腐蚀性好;适用对象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCl、H2O2、IPA等。1. 酸液供应机采用PP瓷质白板,经雕刻后热弯/焊接加工,确保腐蚀罐材料耐强酸腐蚀;2. 操作面设有可视推拉式透明PVC门窗;3. 酸液储罐采用进口PVDF材质,管道采用进口PFA材质。


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