프로세스 흐름도 기술 예비 고밀봉 파이프라인 설계와 지능형 유량 조절 기술을 기반으로, 99.999% 이상의 순도 안정성을 유지하는 고순도 화학물질의 누출 없는 이송을 실현하여 반도체 제조에 요구되는 ppm 수준의 청정도 기준을 충족합니다. 1. 미세 누출 방지 기술: 불활성 가스 보호 + 이중 밀봉 설계로 누출 감지 감도가 10⁻⁶ mbar·L/s에 달합니다. 2. 정밀 유량 조절: 마그네틱 드라이브 펌프는 동적 오차를 ±0.5% 이하로 유지하여 부식성이 강한 유체의 안정적인 이송에 적합합니다. 3. 무해한 배기가스 처리: 촉매 분해 + 흡착 기술을 적용하여 ISO 14001 기준을 충족하는 배기가스를 배출합니다. 산업화의 이점 글로벌 공급망과 자체 프로세스 역량을 통해 높은 신뢰성의 납품과 완벽한 서비스 완료를 실현하십시오. 1. 복잡한 파이프라인 적응성: 고정밀 편심 감속기 및 전환 조인트는 설치 효율을 효과적으로 향상시킵니다. 2. 글로벌 핵심 부품 협력: 내식성 다이어프램 밸브 및 펌프 헤드와 48시간 이내 예비 부품 공급을 통해 시스템 신뢰성을 크게 향상시킵니다. 3. 자동 제어 플랫폼: PLC+SCADA 시스템은 에너지 소비 및 유지 보수 전략을 실시간으로 최적화하여 전체 주기 비용을 크게 절감합니다. 관련 상품 탱크 화학물질 보관함 청소 장비
