반도체 세정 장비

간단한 설명:

세척 장비는 주로 습식 부식 세척 및 기타 공정에 사용되는 부식성 액체를 중앙에서 분배하는 데 사용되며 파이프라인을 통해 장비로 이송됩니다. 높은 자동화 수준, 비례 제어, 간편한 조작 등의 특징을 가지고 있으며 내식성이 우수합니다. 적용 대상: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCL, H2O2, IPA 등. 1. 산 공급기는 PP 도자 화이트보드로 제작되었으며, 조각 후 열간 굽힘/용접 가공을 통해 부식 탱크 재질이 강산 부식에 강하도록 합니다. 2. 작동 표면에는 투명 PVC 도어와 창이 있어 쉽게 조작할 수 있습니다. 3. 산 저장 탱크는 수입 PVDF 소재로, 파이프라인은 수입 PFA 소재로 제작되었습니다.


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반도체 세정 장비

세척 장비는 주로 습식 부식 세척 및 기타 공정에 사용되는 부식성 액체를 중앙에서 분배하는 데 사용되며 파이프라인을 통해 장비로 이송됩니다. 높은 자동화 수준, 비례 제어, 간편한 조작 등의 특징을 가지고 있으며 내식성이 우수합니다. 적용 대상: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCL, H2O2, IPA 등. 1. 산 공급기는 PP 도자 화이트보드로 제작되었으며, 조각 후 열간 굽힘/용접 가공을 통해 부식 탱크 재질이 강산 부식에 강하도록 합니다. 2. 작동 표면에는 투명 PVC 도어와 창이 있어 쉽게 조작할 수 있습니다. 3. 산 저장 탱크는 수입 PVDF 소재로, 파이프라인은 수입 PFA 소재로 제작되었습니다.


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