반도체 세척 장비

간략한 설명:

세척 장비는 주로 습식 부식 세척 및 기타 공정에 필요한 부식성 액체를 중앙 집중식으로 분배하는 데 사용되며, 파이프라인을 통해 장비로 공급됩니다. 높은 자동화 수준, 정량 공급 기능, 간편한 조작 등의 특징을 가지며, 우수한 내식성을 자랑합니다. 적용 대상: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCL, H2O2, IPA 등. 1. 산 공급 장치는 PP 자기 백색판으로 제작되었으며, 조각 후 열 벤딩/용접 가공을 통해 부식 탱크 재질이 강산 부식에 강하도록 했습니다. 2. 작동면에는 투명한 PVC 푸시-풀 도어와 창이 있어 작동 상태를 확인할 수 있습니다. 3. 산 저장 탱크는 수입 PVDF로 제작되었으며, 파이프라인은 수입 PFA로 제작되었습니다.


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반도체 세척 장비

세척 장비는 주로 습식 부식 세척 및 기타 공정에 필요한 부식성 액체를 중앙 집중식으로 분배하는 데 사용되며, 파이프라인을 통해 장비로 공급됩니다. 높은 자동화 수준, 정량 공급 기능, 간편한 조작 등의 특징을 가지며, 우수한 내식성을 자랑합니다. 적용 대상: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCL, H2O2, IPA 등. 1. 산 공급 장치는 PP 자기 백색판으로 제작되었으며, 조각 후 열 벤딩/용접 가공을 통해 부식 탱크 재질이 강산 부식에 강하도록 했습니다. 2. 작동면에는 투명한 PVC 푸시-풀 도어와 창이 있어 작동 상태를 확인할 수 있습니다. 3. 산 저장 탱크는 수입 PVDF로 제작되었으며, 파이프라인은 수입 PFA로 제작되었습니다.


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