초순수(UPW)

超纯수

프로세스 흐름도

超纯水工艺流程图

기술 예비

막 분리 공정(초여과, 1차/2차 역삼투(RO), 1차 전기탈이온(EDI), 2차 EDI)과 AI 기반 동적 모니터링 기술을 바탕으로, 반도체 웨이퍼 세척 및 고정밀 제조 요구 사항을 충족하기 위해 생산수의 저항률을 18.2 MΩ·cm로 안정화하는 전 공정 수질 최적화 시스템을 구축했습니다.

1. 장기 오염 방지 멤브레인 기술: 나노 코팅된 RO 멤브레인(1차/2차)은 화학 세척 주기를 6~12개월까지 연장하며, 염분 제거 효율은 99% 이상입니다.

2. 동적 수질 최적화 알고리즘: AI는 이온 잔류물(EDI 후 미량 이온 포함) 및 입자 농도를 실시간으로 분석하여 90% 이상의 막 오염 조기 경고율을 달성합니다.

3. 유연한 공정 적응 능력: 모듈식 설계로 전처리(예: 초여과) 및 후처리 공정(2차 EDI 심층 담수화)을 신속하게 조정하여 복잡한 수질 변동에 대응할 수 있습니다.

산업화의 이점

모듈식 통합과 자체 제조 역량을 통해 효율적인 납품과 전체 수명 주기 비용 최적화를 달성하십시오.

1. 핵심 부품 자체 생산: PTFE 라이닝 처리된 저장 탱크는 수명이 20% 연장되고 가공 비용이 크게 절감됩니다.

2. 조립식 통합형 시스템: 초여과-역삼투(1차/2차 RO) 통합 스키드 장착형 모듈식 배치로 설치 공간을 효과적으로 줄입니다.

3. 자동 제어 플랫폼: SCADA 시스템은 에너지 소비 및 유지 보수 전략을 실시간으로 최적화하여 전체 주기 비용을 크게 절감합니다.

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