Equipamentos de limpeza
O equipamento de limpeza consiste em tanques de lavagem em aço inoxidável 304/316L, geradores ultrassônicos (40-60 kHz), sistemas de pulverização de alta pressão (5-20 MPa) e sistemas de controle inteligente PLC, com dispositivos de aquecimento opcionais (20-90 °C) e ciclos de filtração. Apresentando eficiência de limpeza ≥99%, consumo de energia ≤0,8 kW·h/m² e alto nível de automação (compatível com CIP/SIP), a parede interna é eletropolida (Ra≤0,8 μm) para suportar meios com pH 2-12. A operação utiliza cavitação ultrassônica combinada com lavagem mecânica com água de alta pressão e agentes químicos para remoção de manchas, com um sistema de filtração que recicla o líquido de limpeza. Aplicado na limpeza de wafers semicondutores (ISO 14644-1 Classe 5), desengorduramento de peças automotivas, esterilização de equipamentos farmacêuticos e remoção de poeira de componentes eletrônicos, em conformidade com as normas GB/T 30032 e ISO 14151.
