Equipamentos para limpeza de semicondutores

Descrição resumida:

O equipamento de limpeza é utilizado principalmente para a distribuição centralizada do líquido corrosivo necessário para a limpeza úmida de corrosão e outros processos, sendo enviado ao equipamento através de tubulações. Possui características como alto grau de automação, dosagem precisa, facilidade de operação, etc., e boa resistência à corrosão. Aplicações: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCl, H2O2, IPA, etc. 1. A máquina de alimentação de ácido é feita de placa de porcelana PP, processada por curvatura/soldagem a quente após gravação para garantir que o material do tanque de corrosão seja resistente à corrosão por ácidos fortes; 2. A superfície de operação possui uma porta e janela transparentes de PVC com sistema de abertura por pressão; 3. O tanque de armazenamento de ácido é feito de PVDF importado e a tubulação é feita de PFA importado.


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Equipamentos para limpeza de semicondutores

O equipamento de limpeza é utilizado principalmente para a distribuição centralizada do líquido corrosivo necessário para a limpeza úmida de corrosão e outros processos, sendo enviado ao equipamento através de tubulações. Possui características como alto grau de automação, dosagem precisa, facilidade de operação, etc., e boa resistência à corrosão. Aplicações: HF, HNO3, KOH, NH4OH, NaOH, H2SO4, HCl, H2O2, IPA, etc. 1. A máquina de alimentação de ácido é feita de placa de porcelana PP, processada por curvatura/soldagem a quente após gravação para garantir que o material do tanque de corrosão seja resistente à corrosão por ácidos fortes; 2. A superfície de operação possui uma porta e janela transparentes de PVC com sistema de abertura por pressão; 3. O tanque de armazenamento de ácido é feito de PVDF importado e a tubulação é feita de PFA importado.


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