Halbleiterreinigungsanlagen
Halbleiterreinigungsanlagen
Die Reinigungsanlage dient hauptsächlich der zentralen Verteilung der für die Nassreinigung und andere Verfahren benötigten korrosiven Flüssigkeit. Die Flüssigkeit wird über Rohrleitungen zu den Anlagen transportiert. Die Anlage zeichnet sich durch einen hohen Automatisierungsgrad, Dosiergenauigkeit, einfache Bedienung und gute Korrosionsbeständigkeit aus. Geeignete Säuren: HF, HNO₃, KOH, NH₄OH, NaOH, H₂SO₄, HCl, H₂O₂, IPA usw. 1. Die Säurezuführungsanlage besteht aus PP-Porzellan-Weißplatten, die nach der Gravur heißgebogen/geschweißt werden, um die Beständigkeit des Korrosionsbehälters gegenüber starken Säuren zu gewährleisten. 2. Die Bedienoberfläche verfügt über eine transparente PVC-Tür und ein Sichtfenster. 3. Der Säurelagerbehälter besteht aus importiertem PVDF, die Rohrleitungen aus importiertem PFA.









